半导体行业废气有哪些？
半导体行业废气主要包括酸性废气、碱性废气及有机废气，酸性废气主要包括HF、HCl、HNO3、HF、H2SO4等，碱性废气主要包括NH3、胺类等，有机废气主要包括含氟、氯、烃类、醚类、氮、氧、硫有机物等。
半导体行业在湿制程、去胶、清洗、湿法刻蚀、干法刻蚀、化学机械抛光、废气处理等工序过程中均会产生含有氯化氢、氟化氢、氨、硫酸、氮氧化物、氟硅酸、VOCs、三氟甲磺酸、三氟乙酸等污染成分的工业废气。例如：扩散工艺中会产生HF腐蚀性废气；氧化工艺中会产生氢气、NH3、N2等废气；光刻工艺中会产生C2H4、CH3OH、CH3COOH等VOCs有机气体；腐蚀工艺中会产生HF、HCl等酸性腐蚀性废气；此外在氧化、光刻、腐蚀等工艺中，还会产生一定量的含氟有机废气（FOUs）等。